Лазерная абляция силикона

Оглавление
    Ajoutez un en-tête pour commencer à générer la table des matières
    Пролистать наверх

    Лазерная абляция быстро становится предпочтительным методом обработки силикона. Это связано с его высокой точностью и гибкостью. В этой статье мы обсудим его принцип, ключевые параметры и его растущее использование в таких отраслях, как электроника, здравоохранение и производство.

    Что такое лазерная абляция силикона?

    Лазерная абляция силикона — это передовая технология, которая использует высокоэнергетический лазерный луч для точного удаления или изменения поверхности силикона. Регулируя энергию лазера, длину волны и импульс, можно создавать тонкие структуры, такие как отверстия, канавки и узоры в микронном или нанометровом масштабе.

    Этот процесс вырезает детали гораздо тоньше человеческого волоса, не вызывая при этом плавления или деформации силикона. Он используется в высокотехнологичных продуктах, таких как умные часы, медицинские чипы и уплотнения аккумуляторов электромобилей.

    В чем заключается принцип лазерной абляции силикона?

    Когда высокоэнергетический лазерный луч попадает на поверхность силикона, материал поглощает энергию лазера и быстро преобразует ее в тепло. Если температура в локализованной области превышает порог испарения или разложения, силикон быстро превращается в газ или мелкие частицы, которые удаляются.

    При определенных длинах волн лазера могут также происходить фотохимические реакции, которые напрямую разрушают молекулярные цепи силикона и способствуют его разложению.

    Точно контролируя мощность лазера, импульс и траекторию сканирования, можно удалять материал с поверхности силикона с микронной или даже нанометровой точностью, создавая желаемые узоры, маркировку или микроструктуры.

    лазерная абляция силикона

    Каковы основные параметры лазерной абляции силикона?

    ПараметрТипичный диапазон/опцииЗначение и влияние
    Длина волны лазера355 нм (УФ) / 10,6 мкм (CO₂)Определяет поглощение материала и точность обработки. УФ подходит для тонких структур, тогда как CO₂ хорош для быстрой грубой обработки.
    Мощность лазера10-200 ВтБолее высокая мощность увеличивает глубину абляции, но мощность >150 Вт может вызвать карбонизацию.
    Частота импульса1-200 кГцВысокая частота (>50 кГц) улучшает качество поверхности, а низкая частота (<20 кГц) увеличивает энергию одиночного импульса, что подходит для обработки глубоких отверстий.
    Скорость сканирования100-2000мм/сБолее высокие скорости снижают тепловое воздействие, но должны соответствовать мощности (выше мощность → выше скорость).
    Смещение фокуса±0,1 ммПоложительное смещение (расширенное пятно) снижает плотность энергии. Отрицательное смещение (сжатое пятно) увеличивает проникновение.
    Газовая средаВоздух / Азот / АргонАзот снижает окисление и карбонизацию, а аргон снижает эффект экранирования плазмы, повышая энергоэффективность на 20%.
    Количество повторений1-10 разГлубину контролируют с помощью многократных сканирований (добавляя 20–50 мкм за сканирование), однако необходимо соблюдать осторожность, чтобы избежать плавления боковых стенок.
    Метод охлажденияЕстественное охлаждение / Водоохлаждаемый субстрат / Распыление жидкого азотаОхлаждение жидким азотом (-196°C) может уменьшить зону термического воздействия (ЗТВ) с 50 мкм до 10 мкм, но увеличивает стоимость 30%.

    Выбор длины волны лазера

    Силикон медицинского назначения: Рекомендуется использовать УФ-лазер 355 нм. Его высокая энергия фотонов (3,5 эВ) может напрямую разрывать связи Si-O, что позволяет производить обработку без термического повреждения (Ra < 1 мкм). Это особенно полезно для медицинского силикона, где точность имеет решающее значение.

    Промышленный силикон: CO₂-лазер 10,6 мкм подходит для более быстрой абляции благодаря своему тепловому эффекту (эффективность до 5 см²/мин). Однако постобработка необходима для удаления карбонизированного слоя, образовавшегося в процессе абляции. Эта длина волны обычно используется в промышленных приложениях, где скорость имеет приоритет над точностью.

    Координация мощности и скорости

    Золотая Формула: Глубина абляции ≈ (Мощность × √Частота) / Скорость

    Пример: Лазер мощностью 100 Вт при 50 кГц, 500 мм/с обеспечивает глубину абляции приблизительно 80 мкм.

    Порог безопасности: Плотность мощности >10⁷ Вт/см² может привести к разрушению материала.

    Частота импульсов и качество фронта

    Высокая частота (>100 кГц): Интервал импульсов составляет менее 10 мкс. Это снижает накопление тепла и идеально подходит для обработки биомиметических каналов, где шероховатость кромок поддерживается ниже Ra < 2 мкм.

    Низкая частота (<20 кГц): Энергия одиночного импульса превышает 1 мДж, что делает его пригодным для обработки гнезд уплотнений аккумуляторов. Эта частота обеспечивает постоянную глубину с допуском ±5 мкм, обеспечивая надежные результаты для более глубоких и сложных разрезов.

    Оптимизация газовой среды

    Продувка азотом: При скорости потока 15–20 л/мин углеродистый остаток снижается на 60%, что делает его пригодным для переработки пищевого силикона.

    Защита аргоном: При обработке токопроводящего силикона аргон предотвращает окисление металлического наполнителя (скорость изменения сопротивления < 3%).

    лазерная абляция силикона2

    Сравнение стратегий охлаждения

    Метод охлажденияЗона термического воздействия (ЗТВ)Увеличение стоимостиПриложение
    Естественное охлаждение50-100мкм0%Декоративные узоры низкой точности
    Подложка с водяным охлаждением30-50мкм15%Промышленные компоненты средней точности
    Распыление жидкого азота10-20мкм30%Микроструктуры медицинских устройств

    Типичные случаи сочетания параметров

    Медицинский микрофлюидный чип

    • Параметры: 355 нм, 80 Вт, 150 кГц, 800 мм/с, азот, 3 сканирования, охлаждение жидким азотом
    • Результат: Изготавливается канал шириной 50 мкм и глубиной 150 мкм с вертикальностью боковой стенки более 89°, при этом не остается никаких остатков углерода.

    Уплотнительная прокладка для нового энергетического транспортного средства

    • Параметры: 10,6 мкм, 150 Вт, 20 кГц, 300 мм/с, воздух, 1 сканирование, естественное охлаждение
    • Результат: Трапециевидная канавка шириной 200 мкм и глубиной 500 мкм протравливается со скоростью обработки 12 деталей в минуту.

    Гибкие электронные изолирующие канавки

    • Параметры: 355 нм, 50 Вт, 100 кГц, 1200 мм/с, аргон, 5 сканирований, подложка с водяным охлаждением
    • Результат: На проводящем силиконе с диэлектрической прочностью более 20 кВ/мм протравлена канавка шириной 80 мкм.
    лазерная абляция силикона3

    Какие еще факторы влияют на процесс лазерной абляции силикона?

    Помимо параметров лазерной обработки, решающую роль в определении конечных результатов лазерной абляции играют собственные свойства силикона.

    ФакторВлияние на лазерную абляцию
    Тип и формула силиконаЛазерное поглощение, теплопроводность и свойства разложения
    ТвердостьТрещина, отслоение, плавление или деформация
    Состояние поверхностиНеравномерная абляция и неравномерное распределение энергии

    Во-первых, тип силикона и его формула являются основными факторами. Различные типы силикона имеют различия в молекулярной структуре и плотности сшивки. Эти различия напрямую влияют на их способность поглощать определенные длины волн лазера, теплопроводность и характеристики разложения при высоких температурах. Кроме того, наполнители и пигменты могут значительно изменять оптическое поглощение, теплоемкость и теплопроводность материала. Это, в свою очередь, влияет на эффективность поглощения энергии лазера, порог абляции и скорость удаления материала.

    Далее, твердость силикона также влияет на процесс лазерной абляции. Более твердый силикон может быть более склонен к хрупкому разрушению или отслаиванию под воздействием лазера, в то время как более мягкий силикон с большей вероятностью расплавится или деформируется. Твердость также влияет на эффективность удаления продуктов абляции и конечную отделку поверхности.

    Наконец, нельзя упускать из виду состояние поверхности силикона, например, его чистоту и начальную шероховатость. Загрязнения, такие как масло или пыль на поверхности, могут поглощать или рассеивать лазерную энергию, снижая эффективность передачи энергии на поверхность силикона и потенциально приводя к неравномерной абляции. Шероховатая поверхность также может стать причиной неравномерного распределения лазерной энергии, влияя на однородность и точность абляции.

    Поэтому перед выполнением лазерной абляции силикона необходимо полностью понять и оценить присущие силикону свойства. Оптимизация параметров лазерного процесса на основе этих характеристик является ключевым шагом для достижения желаемых результатов абляции.

    лазерная абляция силикона4

    Каковы области применения лазерной абляции силикона?

    Лазерная абляция силикона продемонстрировала большой потенциал во многих областях.

    ПолеПриложения
    Микрообработка и производство микроструктур3D-схемы жидкостей, чипы для культивирования клеток, микролинзы, гибкая электроника, датчики, нескользящие поверхности
    Модификация поверхностиОптические приборы, пленка SiO2
    Биомедицинские приложенияФотосенсибилизаторы, антибактериальные средства, медицинские приборы, катетеры
    Промышленное применениеСиликоновые формы, силиконовые композиты, армированные углеродным волокном

    Микрообработка и производство микроструктур

    Лазерная абляция используется для создания крошечных отверстий, таких как сквозные отверстия диаметром 1 мкм. Она идеально подходит для таких приложений, как 3D-схемы жидкостей или чипы клеточных культур. Кроме того, абляция лазером F2 157 нм может образовывать микровыступы SiO2 на силиконовых поверхностях, которые затем обрабатываются в микролинзы с фокусным расстоянием от 10 до 170 мкм. Лазерная абляция также широко используется для поверхностного рисунка в гибкой электронике, датчиках или нескользящих поверхностях.

    Модификация поверхности

    ArF-лазер 193 нм может модифицировать поверхность силикона, создавая структуру, похожую на кремний, производя люминесценцию белого света. Это полезно в оптических устройствах. Кроме того, высокоэнергетическая абляция в сочетании с кислородной атмосферой позволяет наносить прозрачную пленку SiO2 на подложку, достигая коэффициента пропускания 95%.

    Биомедицинские приложения

    Фемтосекундные лазеры можно использовать в воде для абляции силикона и получения незагрязненных силиконовых наночастиц. Эти наночастицы можно использовать в качестве фотосенсибилизаторов или антибактериальных агентов. В производстве медицинских устройств лазерная абляция может микроструктурировать поверхности катетеров, улучшая биосовместимость или эффективность высвобождения лекарств.

    Промышленное применение

    Лазерная абляция используется для очистки остатков силиконовых форм бесконтактным и безхимическим способом. Она также используется в обработке композитных материалов, например, для точной резки или обработки поверхности армированных углеродным волокном силиконовых композитов.

    лазерная абляция силикона5

    Почему лазерная абляция силикона лучше традиционных методов гравировки?

    Лазерная абляция силикона имеет ряд преимуществ по сравнению с традиционными методами гравировки. Ее бесконтактная природа предотвращает деформацию и повреждение материала, что делает ее особенно подходящей для мягкого силикона. Высокая точность лазера позволяет выполнять обработку на микронном уровне, что превосходит традиционную механическую гравировку. Кроме того, лазерная абляция обеспечивает большую гибкость, поскольку сложные узоры можно легко настраивать с помощью программного обеспечения без необходимости менять формы. Она также может достигать изменений поверхности, добавляя силикону новые свойства. Более того, ее легко автоматизировать, что может снизить затраты на техническое обслуживание в долгосрочной перспективе. Эти преимущества делают лазерную абляцию более мощным и перспективным методом обработки силикона.

    Заключение

    Лазерная абляция силикона имеет ряд преимуществ по сравнению с традиционными методами, предлагая точность, гибкость и возможность изменять силиконовые поверхности без повреждения. По мере развития технологий ее потенциал для еще большего количества отраслей становится все более обширным. Воспользуйтесь этой инновацией, чтобы открыть новые возможности в обработке силикона.

    Имея многолетний опыт в производстве силикона, мы специализируемся на поставке высококачественных силиконовых продуктов с использованием передовых производственных технологий. Если вам нужны индивидуальные проекты или особые характеристики, наша команда здесь, чтобы воплотить ваше видение в жизнь. Свяжитесь с нами сегодня, чтобы создать идеальное силиконовое решение, адаптированное под ваши потребности.

    Об авторе: Жуйян Силикон

    Жуйян Силикон, основанная в 2012 году, специализируется на производстве высококачественных, экологически чистых силиконовых изделий, соответствующих стандартам FDA. Они сосредоточены на силиконовые детские товары, кухонная утварьи игрушки, обеспечивающие безопасность и нетоксичность. Компания предлагает широкий ассортимент оптовых товаров, таких как силиконовые ложки, шпатели, детские нагрудники, и пустышки. Они предоставляют OEM услуги по настройке, что позволяет адаптировать продукцию по эскизам заказчика.

    Как воздействие ультрафиолета и погодные условия влияют на силиконовые полоски?

    Силиконовые полоски необходимы во многих областях применения, от герметизации окон до защиты деталей. Однако воздействие ультрафиолета и погодные условия могут повлиять на их производительность. Знаете ли вы

    Читать далее "
    Роль силикона в технологиях возобновляемой энергии

    Чувствуете себя в тупике при выборе материалов, которые могут выдерживать жесткие требования возобновляемых источников энергии? Вы не одиноки. Многие специалисты сталкиваются с необходимостью поиска решений, которые

    Читать далее "

    Проконсультируйтесь со своими экспертами по силиконовым продуктам

    Мы помогаем вам избежать ошибок и обеспечить качество и ценность ваших силиконовых изделий, вовремя и в рамках бюджета.

    Авторские права © 2024 RuiYang | Все права защищены.

    Спросите быструю цитату

    Если вы не смогли отправить форму, пожалуйста, напишите нам напрямую по адресу support@rysilicone.com